据尚积半导体官微消息，近日，尚积半导体的12寸PVD&CVD薄膜沉积设备顺利交付国内某头部客户，成功跻身12寸半导体。
据悉，该设备具有如下特点：1、高精度控制系统，确保成膜质量——该设备配备了高精度温度、压力、功率及气流控制系统，确保沉积过程稳定可靠，成膜质量优异；2、模块化设计，满足个性化需求——该设备采用模块化设计，便于客户根据实际需求进行灵活配置和升级；3、产品性能更优，生产效率更高——该设备优秀的工艺性能和设备的稳定性将为客户带来更优产品性能、更高的生产效率和更可靠的质量保障。
资料显示，尚积半导体是一家专业研发、生产半导体国产自研设备的厂商，主营设备包括金属溅射沉积（PVD）、加强型等离子化学气相沉积（PECVD）、等离子干法刻蚀（ETCH）等，主要服务于功率器件、微机电系统、先进封装、化合物半导体、射频等领域的客户。近几年，尚积半导体在半导体产业的多个领域实现薄膜溅射设备的首次国产化突破和进口替代，刻蚀设备、沉积设备陆续通过验证后交付，并获得大量订单。
